描边算法

这里分别是三种算子或者叫卷积核，简单理解就是从左到右，性能和效果逐渐递增，Roberts算子只有2x2也就没有中心点，所以会中心偏移半个像素这样 算子定义了邻域采样的权重分布，通过对周围像素的深度/法线值进行加权求和来计算梯度，UV偏移决定采样位置，来采样SenceDepth和SenceNormal

全局描边

全局描边，是对整个场景进行描线，但是这会对角色描线，这是不必要的，所以仅适合做重描线的风格化

参数设计

为了通用性，这里直接将算子和描边混合方式全部参数化，方便调整

Shader使用宏控制，尽量减少编译的性能开销

效果对比

参数统一，仅调整算子和模式

DepthOnly

仅深度描边，明显Sobel细节更多

NormalOnly

采样SceneNormal得到的描边，细节更多，但是杂色也更多，反而Roberts看着更好一点

DepthAndNormal

混合模式主要还是解决DepthOnly描线缺失的问题，需要对Normal混合阈值进行微调

点击高亮(描边)

因为场景通常不会使用全局描边，描边一般使用在交互物品上或者特殊独立显示的物体，所以这里做了一个点击生效的描边，需要额外增加射线检测的脚本给相机

参数设计

大致原理和前者全局描边类似，但是额外需要写入深度，从原理上来讲使用Stencil剔除也是可以的，但是我测试貌似行不通，有个说法是unity的深度图写入和抗锯齿会清除掉在RenderFeature写入的Stencil 这里额外增加了X光效果，以及剔除遮蔽描边的控制

深度写入和法线写入

因为涉及到深度和法线两种描边方式，针对单一物体，所以需要插入绘制两张RT 对于法线RT写入同时写入深度剔除掉自遮蔽的部分

图中可以看到这样剔除掉了自遮蔽的部分，但是因为是单独对点击物体注入Pass，是无法得到场景其他物体遮蔽的，所以需要额外处理

X光效果

自遮蔽描边属于X光效果，所以描线则有单独Pass写入进行独立控制 自遮蔽效果如下，可以勾勒内部描线

其余物体的遮蔽处理

因为当前的描边是基于单个物体的，这意味着深度测试是不完全的，没有其他物体的遮蔽信息，所以会出现现在这种描边穿透效果。

为了解决这个问题，需要对描边算子跑两遍，一遍使用场景深度计算，一遍使用写入的CustomDepthRT计算，这其实就可以得到当前物体在场景深度下的mask 这样就计算出物体的正确的含场景遮蔽描边线 在使用上面得到的含遮蔽的描边和现在计算的无遮蔽描边进行Lerp就得到最终输出描边 遮蔽处理后效果 因为这个透显效果实际上应该和X光效果同时出现，所以共用了XRayAlpha参数 对于法线描边处理方式和深度描边一样处理，不过mask计算稍有不同，略有瑕疵，这个难以避免